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金屬Ti 導電膜層 高速鉆頭 鍍膜 PVD離子鍍膜

鍍層金屬: 可定制(TiC/TiNC/Gr/等等)
鍍層顏色: 可定制(銀色/黑色/寶藍色/銅色/等)
鍍層厚度: 20nm~1000nm
單價: 1.00元/件
發貨期限: 自買家付款之日起 天內發貨
所在地: 陜西 西安
有效期至: 長期有效
發布時間: 2023-12-01 01:56
最后更新: 2023-12-01 01:56
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詳細說明

金屬Ti以其良好的導電性和機械性能在工業領域得到廣泛應用。導電膜層作為一種關鍵技術,可以在金屬表面形成均勻且穩定的導電層,提高金屬的導電性能和耐腐蝕性。


高速鉆頭作為一種重要的切削工具,其質量直接影響到鉆孔的質量和效率。為了提高高速鉆頭的耐磨性和延長使用壽命,鍍膜技術成為一種有效的解決方案。PVD離子鍍膜技術在高速鉆頭的鍍膜過程中發揮著重要作用。


PVD離子鍍膜是一種將金屬薄膜沉積在金屬表面的技術。它通過將鈦金屬蒸發源置于真空室中,施加高能離子束轟擊鈦靶材,使鈦原子從靶材表面蒸發并沉積在高速鉆頭表面。這種薄膜沉積方式具有高附著力、高硬度、低摩擦系數等優點。


通過PVD離子鍍膜技術,在高速鉆頭表面形成的金屬Ti膜層可以有效提高鉆頭的硬度和耐磨性,減少鉆頭與工件之間的摩擦,從而提高鉆孔的效率和質量。金屬Ti膜層還可以提高鉆頭的耐腐蝕性,延長鉆頭的使用壽命。


金屬Ti、導電膜層、高速鉆頭和PVD離子鍍膜技術在工業領域都扮演著重要的角色。它們的應用不僅提高了金屬材料的性能,還改善了工業生產的效率和質量。未來,隨著科技的不斷進步,這些領域的研究和應用將會得到更大的發展。


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