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半自動晶圓腐蝕清洗機

單價: 350000.00元/臺
發貨期限: 自買家付款之日起 天內發貨
所在地: 廣東 深圳
有效期至: 長期有效
發布時間: 2023-12-15 09:00
最后更新: 2023-12-15 09:00
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詳細說明

半自動晶圓腐蝕清洗機是晶圓蝕刻清潔系統,滿足晶片、光掩模和基板蝕刻清洗特定工藝需求。

非常適合蝕刻和清潔從小直徑到超大直徑的各種尺寸的晶片、光掩模和基板。晶圓蝕刻清洗機CESx可配置多個過程分配選項,從用于DI-H2O或化學的Megasonic噴嘴;用于化學配藥的低壓噴嘴;化學和DI-H2O加熱器;用于表面攪拌以加速反應的刷子和/或DI-H2O;還有更多。

半自動晶圓腐蝕清洗機可編程拋物線臂運動有助于確保均勻蝕刻??焖儆行У母稍锛夹g結合了可變的旋轉速度;可選加熱的DI-H2O;和氮輔助。非常安全,具有“沖洗至pH”功能,可在接觸基質之前去除腔室內的任何化學物質。

適合直徑不超過9x9英寸/300mm直徑的基片

半自動晶圓腐蝕清洗機具有無刷伺服電機的主軸組件用于**的速度控制和分度。

擺動式分配臂,速度可調&行程位置&可編程拋物線行程。

徑向排氣室,*大層流在蓋的頂部與N2進料一起流動。

半自動晶圓腐蝕清洗機用于清潔和干燥輔助的DI-H2O加熱器。

符合FM4910的PVDF工藝室,含PTFE涂層不銹鋼表面&獨立聚丙烯機柜,不銹鋼內部帶泄漏的框架和集成二次安全殼偵查
微處理器控制,能夠保持三十(30)個食譜在內存中有三十(30)個步驟。

用清水沖洗至整個工藝區域和基材的pH值聯鎖裝置禁止進入工藝區和控制區排水和主軸速度,直到安全。

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