TAC(Tetrahedral Amphous Carbon,四面體非晶碳)涂層，是一種無(wú)DLC（類(lèi)金剛石）涂層，其膜層可以達(dá)到85%以上的（金剛石）SP3鍵含量，具有的硬度(>75 GPa)、極低的摩擦系數(shù)(< 0.1)、高彈性模量、寬透光范圍、良好的化學(xué)惰性等優(yōu)點(diǎn)，其物理化學(xué)性質(zhì)和金剛石極其類(lèi)似。

應(yīng)用范圍：在消費(fèi)電子、高精密模具、交通工具等領(lǐng)域具有優(yōu)勢(shì)。

目前現(xiàn)有的成熟技術(shù)制備的Ta-C涂層硬度基本穩(wěn)定在HV，一般而言，在涂層結(jié)合力達(dá)標(biāo)的情況下，涂層的硬度和耐磨性能成正比，對(duì)于一些特殊情況下的使用，現(xiàn)有成熟技術(shù)制備的Ta-C 涂層很難達(dá)到HV的超硬要求。

而超硬類(lèi)金剛石涂層工藝硬度可控制在4500~8000HV，大幅增加膜層硬度。

超硬類(lèi)金剛石涂層：

TAC(Tetrahedral Amphous Carbon,四面體非晶碳)涂層，是一種無(wú)DLC（類(lèi)金剛石）涂層，其膜層可以達(dá)到85%以上的（金剛石）SP3鍵含量，具有高的硬度(>75 GPa)、極低的摩擦系數(shù)(< 0.1)、高彈性模量、寬透光范圍、良好的化學(xué)惰性等優(yōu)點(diǎn)，其物理化學(xué)性質(zhì)和金剛石極其類(lèi)似。

安徽純?cè)村兡た萍加邢薰荆ê?jiǎn)稱(chēng)純?cè)村兡ぃ怯尚录悠職w國(guó)創(chuàng)業(yè)團(tuán)隊(duì)于2014年創(chuàng)立的高科技公司，主要從事真空納米鍍膜設(shè)備的設(shè)計(jì)、研發(fā)、加工制造、銷(xiāo)售、售后服務(wù)和鍍膜生產(chǎn)服務(wù)。

公司目前擁有設(shè)計(jì)、研發(fā)、工藝、市場(chǎng)和生產(chǎn)等各方面的專(zhuān)業(yè)人才，在純離子鍍膜(Pure Ion Coating，簡(jiǎn)稱(chēng)PIC)、化學(xué)氣相沉積（CVD）、磁控濺射、多弧離子鍍、離子束刻蝕清洗等真空鍍膜應(yīng)用領(lǐng)域都擁有國(guó)內(nèi)外技術(shù)。

膜層系列有Ta-C、DLC、低溫化物膜 (TiN、CrN等)、碳化物膜 (CrC等)和高致密金屬/合金膜等。

注明：以上數(shù)據(jù)來(lái)源于安徽純?cè)村兡た萍加邢薰?先進(jìn)材料實(shí)驗(yàn)室-檢測(cè)結(jié)果